像素3648
像素尺寸8μm
光柵焦距500mm
刻線2700 條 /mm
譜線范圍130-640nm
分辨率** 0.01nm
一個產品在市場上有競爭力,不外乎取決于以下幾方面:首先是技術的性,技術上有自己到的地方;其次在于儀器的可靠性、耐用性;*三則為適用性,用戶可以方便操作,儀器對操作人員的要求不高。那么,這些方面,鋼研納克1000型光電直讀光譜儀做的如何呢?
關于技術的性,鋼研納克在研制光電直讀光譜之前,一直在進行金屬原位分析儀器的研制;金屬原位分析也是基于火花放電原理,鋼研納克將其中的關鍵技術移植到了火花直讀光譜中
光電光譜分析存在的誤差在所難免,要正確的認識誤差,查找誤差存在的原因,采取有效的措施消除誤差。光譜分析誤差除受上面幾種因素的影響外,還有以下幾種因素的影響:
1.人的因素: 操作者的質量意識、責任意識、操作技術、水平高低、熟練程度等都會影響的效果;
2.設備因素: 比如設備的狀態是否優良、是否定期和維護,光源性能穩定性如何,氬氣供氣系統是否穩定,試樣加工設備狀況是否正常、是否對加工設備進行定期維護保養等,都會一定程度上影響結果的準確性。
3.樣品試樣因素:比如待測試樣成分是否均勻,是否具有試樣的代表性,熱處理狀態和組織結構狀態是否正常,標準試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻,成分含量的標準值是否可靠,組織結構是否統一、磨制樣品方法是否規范、效果是否有效等等,都是影響其效果的關鍵因素。
4.分析方法因素:在分析方法上,分析曲線制作及擬合程度是否達標,標準化過程及效果是否,控樣選擇是否規范,定值是否嚴格等等,都一定程度上影響著效果。
5.環境因素:比如所在分析室的溫度、濕度是否正常,受否受電磁干擾的影響,所處環境是否清潔衛生,是否具備要求的條件穩定的操作環境,只有有了良好的環境,才能為結果的準確性提供**。
根據儀器的結構不同,又可分為多道直讀光譜儀和全譜直讀光譜儀,其中前者多采用光電倍增管作為器,后者多采用陣列器(如CCD).
隨著CCD技術的不斷發展,直讀光譜儀開始朝小型化、全譜型方向發展.小型化儀器功耗小,占用空間小且易于維護;全譜直讀光譜儀能夠獲得全波段范圍內的光譜,滿足多基體分析要求,譜線選擇靈活,可以有效扣除光譜干擾,分析較準確,而多道直讀光譜儀只能有限數量的光譜,很難做到這一點.
通常來說,光譜儀有三個重要組成部分:狹縫(Slit)、色散元件(Dispersive element)、器(Detector)。在光譜儀性能評價中,重要的評價指標之一便是色散能力(Dispersive power)。
簡單而言,就是色散元件能夠把復色光分散到多寬的范圍上,光被分散地越寬,光譜儀的分辨率自然越好。
可以看到,焦平面越遠,刻線越密,色散能力越強,后者受到光柵制作工藝限制,傳統的光譜儀往往在上下功夫,這也是光譜儀做的比較大的原因。
然而,值得注意的是,你把光譜儀的分辨能力提得越高,雖然波長相近的光能夠被區分地較好,但其代價就是一定長度的detector上所能展現的光譜范圍變小了,所以,當光柵光譜儀發展到一定階段后,人們發現重要的問題又出現在了器(detector)這一側。
器
感光元件是直讀光譜儀的**,元器件的好壞關系到精密儀器的精度。直讀光譜儀(OES)的**元件有三種,一種是廣泛使用的CCD(電荷耦合)元件;另一種是CMOS(互補金屬氧化物半導體)器件,還有一種是PMT光電倍增管。
以上的器件都是光譜儀的**器件,元件的質量對光譜儀的種類來說很重要。
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