像素3648
像素尺寸8μm
光柵焦距500mm
刻線2700 條 /mm
譜線范圍130-640nm
分辨率** 0.01nm
根據儀器的結構不同,又可分為多道直讀光譜儀和全譜直讀光譜儀,其中前者多采用光電倍增管作為器,后者多采用陣列器(如CCD).
隨著CCD技術的不斷發展,直讀光譜儀開始朝小型化、全譜型方向發展.小型化儀器功耗小,占用空間小且易于維護;全譜直讀光譜儀能夠獲得全波段范圍內的光譜,滿足多基體分析要求,譜線選擇靈活,可以有效扣除光譜干擾,分析較準確,而多道直讀光譜儀只能有限數量的光譜,很難做到這一點.
光譜儀在分析的過程中,電火花燃燒樣品表面會產生金屬粉塵,大部分的金屬粉塵都會隨著氬氣吹掃排到過濾罐中,然而也會有少部分金屬粉塵會停留在激發室里,時間長了會堆積污染激發室和光學透鏡,引起測量數據波動,誤差變大,所以需要定期的清理來改善激發室環境,改善測量數據。
光譜儀在使用的過程中,會有一部分金屬粉塵、金屬屑、灰塵掉落到儀器內部電路模塊上,如果不及時清理可能會導致電路模塊短路,一些**的電路板損壞維修費用會很高,所以需要及時的清理儀器內部灰塵,保證電路的正常運行。
光電光譜分析存在的誤差在所難免,要正確的認識誤差,查找誤差存在的原因,采取有效的措施消除誤差。光譜分析誤差除受上面幾種因素的影響外,還有以下幾種因素的影響:
1.人的因素: 操作者的質量意識、責任意識、操作技術、水平高低、熟練程度等都會影響的效果;
2.設備因素: 比如設備的狀態是否優良、是否定期和維護,光源性能穩定性如何,氬氣供氣系統是否穩定,試樣加工設備狀況是否正常、是否對加工設備進行定期維護保養等,都會一定程度上影響結果的準確性。
3.樣品試樣因素:比如待測試樣成分是否均勻,是否具有試樣的代表性,熱處理狀態和組織結構狀態是否正常,標準試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻,成分含量的標準值是否可靠,組織結構是否統一、磨制樣品方法是否規范、效果是否有效等等,都是影響其效果的關鍵因素。
4.分析方法因素:在分析方法上,分析曲線制作及擬合程度是否達標,標準化過程及效果是否,控樣選擇是否規范,定值是否嚴格等等,都一定程度上影響著效果。
5.環境因素:比如所在分析室的溫度、濕度是否正常,受否受電磁干擾的影響,所處環境是否清潔衛生,是否具備要求的條件穩定的操作環境,只有有了良好的環境,才能為結果的準確性提供**。
隨著使用時間的推移,光室、光學器件會發生非常微小的形變,就是這些微小的形變都會引起光路細微的漂移,從而導致儀器測試精度和準確度的改變,而且這個漂移會隨著時間的延遲表現的越來越明顯,如果要再次提高儀器的性能就需要人為的調整參數來修正這部分漂移,從而改善光譜儀的性能。
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